概述:該系列產品針對不同的用途,采用特殊的生產工藝進行控制,對產品的晶粒形貌以及產品的粒度分布進行嚴格控制,產品晶粒形貌呈圓片狀、粒度分布窄、不易產生劃痕特別適于精細拋光。產品硬度高(莫氏硬度為9),且懸浮穩定性好,具有良好的研磨拋光性能。
用途:制作拋光蠟,拋光液或拋光膏的骨料,用于電子材料研磨:單晶硅片等半導體電子材料的研磨;用于光學玻璃拋光:顯像玻殼、計算機硬盤、光學鏡頭等的表面拋光;用于裝飾材料拋光:適用于各種高檔石材、各種金屬裝飾材料等的拋光。
主要技術指標:
牌 號
Al2O3 (≥,%)
SiO2 (≤,%)
Fe2O3 (≤,%)
Na2O (≤,%)
真比重
(≥, g/cm 3)
結晶粒徑 (μm)
備注
AC-501G
99.2
0.2
0.05
0.4
3.90
0.1-0.3
超精光
AC-502G
0.3
3.92
1-2
精光
AC-503G
3.94
2-3
中拋
AC-504G
99.5
0.1
3.96
3-5
出光